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等离子刻蚀设备
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APC 技术在刻蚀工艺过程控制中的研究进展王巍 1,吴志刚21(重庆邮电学院光电工程系, 重庆 (电子科技大学电子工程学院,成都 610054)摘要:APC 是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR 控制。APC 引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高等离子刻蚀机的使用效率和产品成品率,适应当前深亚微米半导体工艺技术发展的需求。针对等离子体刻蚀机及其刻蚀...
;基于供应链的缩短多阶响应周期的管理模式研究&10142.&数控机床误差智能补偿装置&10243.&准分子激光电化学生产线关键技术&10344.&数控机床误差智能补偿装置&10445.&高速高精运动控制器技术研究&10546.&新型汽车摩托车车身模具的等离子数字化熔射快速制造技术与设备 ...
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阻挠中国核心技术发展。只要中国在核心技术上取得突破,例如上海中微半导体成功推出先进的等离子体刻蚀机,美国马上宣布相关设备的出口松绑。另一方面,也透过合作模式积极主导其在中国市场的发展,控制核心技术,抢占市场,中国厂商与其合作或者“购买技术”后自己研发,缺少横下一条的斗志,进而削弱了中国的自主研发动力。
  中国半导体业要以全新的姿态融入世界
  莫大康语重心长地说,中国半导体行业当前要切实做好...
本公司是一家以中国为基地、面向亚洲和全球的微观加工高端设备公司,通过向全球领先的半导体和LED芯片制造商提供自主知识产权的晶圆制造方案,帮助他们提升技术水平、提高生产效率、降低生产成本。中微致力于向国内外半导体芯片前端制造、先进封装、发光二极管生产以及其他微观制程的生产线提供极具竞争力的设备和高质量的客户服务。中微的等离子刻蚀设备和硅通孔刻蚀设备已被广泛应用...
物理气相沉积/真空镀膜/PVD/丹顿DENTON磁控溅射镀膜系统-Explorer
美国丹顿真空设备有限公司是世界知名真空镀膜设备制造商,成立于1964年。丹顿是美国军方签约的设备供应商,为美国军品研发和制造提供真空镀膜设备。作为美国老牌“军工”企业,丹顿真空以设备的实用性和可靠性见长。目前,丹顿真空已为全球客户设计制造了总数超过5千台的各种规格的电阻/电子束蒸发、磁控溅射、离子束溅射/刻蚀...
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