在半导体光掩模制备工艺 中 超微粒干版 的使用条件 八七 一 厂 王 志 刚 、 随着半导体 中 大规模集成 电路 的飞速 发展 , 光刻掩模 的制备手段和使用材料都发 、 生 了巨大变革 , 乳胶掩模版几乎 已全为金属掩模 表面 教有 防止反 射膜 的掩模 以及橙色 、 透 明金 属氧化物 的掩模所取代 。 但是在初缩 精缩 的过 程 中母 版 的制作及 在通 常 的光学 。 照相 系统 中, 暂时还找不 到更理想 的替代 物 所 以, 如 何提高乳胶干 版 的质量 , 找 出最 佳 的使用工艺成为从事制版工作 的人们 不 断探讨 的课题 。 本文仅对乳胶掩模版 的制 备工 。 艺提 出一 些 方法和 意见 、 一 超微粒干版优缺 点的简单分析 、 、 目前 , 国 内各半导体厂 所使用 的超微 粒干 版大 致有 国产 的 本 单位 自制 的 美 国的 、 、 柯达版及 日本 的樱花版 。 这些千版 虽然 在干 净程 度 光敏度 分 辨 率等性 能 上 各 有 差 、 。 异 , 但成份 结构都差 不 多 超微粒 乳胶干 版是 以超平 优 选 制版 玻 璃作为 片基 , 玻 璃厚 度在 毫米 之 间。 作 为感 光物质 的 卤化银 的载体是 乳胶 。 卤化银 均 匀地 分布在 厚 度 为 微米 的乳胶层 中。 当然在 乳胶层 里还 分 布着各种 增感 、 固着 、 防灰雾 等化 学试 剂 , 在制版玻璃 的背 面 涂有 防光晕层 , 有 的超 微粒 干版在乳胶层 与玻 璃 之 间 还 涂 一 底 、 、

兄弟一起干-(电影《英雄本色2018》开干版推广曲)