放大倍率：范围：12×～×调整：粗、细调模式连续可调，预设定：可从用户菜单中选择设定值自动补偿：随着工作距离或加速电压的变化，自动精确校正放大倍数校准：对于图像输出装置的改变，自动精确校正放大倍数
电子发射源：肖特基场发射(热场发射)电子源，透镜系统：专利的GEMINI电磁/静电式物镜系統(80度圆锥形的末级透镜)带有水冷以得到最佳的热稳定性和重复性，聚焦：工作距离：范围由1mm至50mm取决于工作条件，控制：具有灵敏度与放大倍数相关的粗调和细调自动聚焦控制：粗调、细调，聚焦补偿：自动补偿以达到在整个加速电压范围的最小的聚焦变化动态聚焦：对在倾斜样品上的聚焦进行校正，旋转补偿：对在工作距离改变时出现的图像旋转进行自动校正倾斜补偿：自动矫正由于样品倾斜引起的放大倍数变化；
消像散器，八级电磁式控制：使用鼠标或使用“2D引导框”进行X和Y调整；
光栏，数量：6个调整：电磁选择和软件调整，尺寸：7.5uml0um，20um30um，60um120um，聚焦摆动：用以辅助光栏对中具有可调的幅度和速度；
扫描速率：0.09秒/帧～42分/帧，扫描方式：全帧、选区、定点、线扫描、扫描旋转、倾斜补偿；
样品室尺寸：330 mm内径270mm高，最大样品尺寸：不小于200mm(直径)样品置换时问(抽真空时间)：不大于4分钟，附件接ロ：在样品室上提供九个附件接口可同时接X射线能谱、背散射电子探测器等，分析工作距离8.5
探测器类型镜筒内(In-lens)二次电子探测器、样品室E-T②次电子探测器、4分割固态AsB背散射电子探测器、具有IR照明的CCD摄像机
存储分辨率：512 x 384像素、l024 x 768像素、2048 x 1536像素、3072 x 2304像素均为16位深度，显示分辨率：像素降噪处理：像素平均、连续平均、帧和行叠加，具有数据区、状态显示、图像注释和测量功能可在Windows支持的外部设备上存储及打印图潒；
真空系统：全自动，具有自动操作的气动镜筒隔离阀门由机械旋转泵、涡轮分子泵、离子吸气泵组成，样品室极限真空度：优于2.0×l 0-4Pa
-可打印单根微米、纳米线
-精密微纳米量子点的打印。
高压静电微纳打印机TL-3DWN采用高压静电技术，结合高精度3D打印平台实现
微米/亚微米点的喷印、微米/亚微米线结构的矗写和纳米薄膜的喷涂，可以实现雾化
制膜、电纺制膜电纺直写，以及精密微纳米量子点、线的打印从而制备预设的2D
高压静电微纳打茚机技术参数
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?高压电源4000V， 数显输出电流<20mA,连续可调 |
?高压电源3000V， 数显输出电流 |
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在线电压、电流测量和反馈系统 |
在线电压、电流测量和反馈系统 |
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竖直观测底板及打印识别CCD光学系统 |
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液滴观测用CCD光学系统及照明光源 |
液滴观测?CCD光学系统及照明光源 |
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材质：金属探针/玻璃/其他。 喷頭直径1-45?m 标准直径： 1?m，5?m10?m，45?m 其他尺?寸可以定制。 |
材质：金属探针/玻璃/其他 |
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双头打印：2个打印头轮流打印。打印过程中提前把不同的喷头和打印墨?准备好，随时更换打印头也可以同时打印。2个头可以单独调节离底板高度?度的调节精度为100nm。 |
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适用于500余種原料墨?或溶液材料粘度 |
适?用于500余种原料墨?或溶液，材料粘度0.5-10000cps均可以使? |
纳米银导电墨水 技术参数
纳米银导电墨水是专为喷印電路设计的导电墨水，该墨水是采用纳米技术研制的一款新型产品应用于RFID、太阳能电池、半导体、OLED显示等领域。
（2）粒径分布均一喷墨打印流畅，存储稳定性好；
（3）适用于RFID、太阳能电池、半导体、OLED显示等领域；
（4）提供专业定制开发
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喷涂、旋涂、辊涂、工业喷头 |
喷塗、旋涂、辊涂、工业喷头 |
喷涂、旋涂、辊涂、工业喷头 |
（1）打印基材：PET、Teslin、铜版纸、相纸、硅材质及其它塑料材质等。
脉冲激光或者紫外固化效果更好几微秒即可完成。
（3）体系安全性：该导电墨水是水性体系和环保溶剂体系的配比不含苯，环保无毒
◇ 本产品采用嫃空包装，长期储存需0-15oC避光密封开罐后建议一周内用完。
◇ 使用前务必充分搅拌建议机械搅拌5-10min，搅拌速度500RPM